最近，不少人私聊小编有关光刻胶的问题，所以小编不逐个回答了，在本篇文章将会有全面的解说，一同来看看吧！

文章概要预览： 1、光刻胶的效果 2、光刻胶是什么资料 起什么效果 3、光刻胶是什么资料起什么效果 光刻胶的效果 1、光刻胶是一大类具有光敏化学效果(或对电子能量灵敏)的高分子聚合物资料，是搬运紫外曝光或电子束曝照图画的前言。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。光刻胶的效果便是作为抗刻蚀层维护衬底外表。光刻胶仅仅一种形象的说法，由于光刻胶从外观上呈现为胶状液体。

2、光刻胶一般是以薄膜方式均匀覆盖于基材外表。当紫外光或电子束的照耀时，光刻胶资料自身的特性会产生改动，经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底外表，这样就将规划的微纳结构搬运到了光刻胶上，而后续的刻蚀、堆积等工艺，就可进一步将此图画搬运到光刻胶下面的衬底上，最终再运用除胶剂将光刻胶除掉就能够了。

光刻胶是什么资料 起什么效果 资料：由感光树脂、增感剂和溶剂3种首要成分组成的对光灵敏的混合液体。

效果：在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层资料。

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生变化的耐蚀剂刻薄膜资料。半导体资料在外表加工时，若选用恰当的有选择性的光刻胶，可在外表上得到所需的图画。光刻胶按其构成的图画分类有正性、负性两大类。

光刻胶

在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层资料为正性光刻胶。假如曝光部分被保存下来，而未曝光被溶解，该涂层资料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包含紫外正、负性光刻胶）。

深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶首要应用于显现面板、集成电路和半导体分立器材等纤细图形加工作业。光刻胶生产技术较为杂乱，种类标准较多，在电子工业集成电路的制作中，对所运用光刻胶有严厉的要求。

以上内容参阅：百度百科——光刻胶

光刻胶是什么资料起什么效果 光刻胶是一种具有光敏化学效果(或对电子能量灵敏)的高分子聚合物资料，是搬运紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist，也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功用是作为抗蚀刻层维护衬底外表。光致抗蚀剂仅仅一种图画，由于它在外观上是以胶状液体呈现的。

光致抗蚀剂一般以薄膜的方式均匀地涂覆在衬底的外表上。当遭到紫外光或电子束照耀时，光致抗蚀剂资料自身的特性会产生变化。用显影剂显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶会残留在基底外表，然后将规划好的微纳结构搬运到光刻胶上。后续的刻蚀、堆积等工艺能够进一步将这种图画搬运到光刻胶下面的衬底上，最终用光刻胶去除剂去除光刻胶。

看完本文之后，你是否学习到新的常识？想要学习炒股、基金或许期货等出资常识，敬请重视咱们的网站，欧迪理财为你带来有用的出资干货技巧。